鋼研納克擁有35年電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗；
數(shù)十項ICP-OES檢測標(biāo)準(zhǔn)的起草單位；
電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T36244-2018起草單位；
Plasma 3000作為一款高性能的全譜型多元素分析儀器，高光通量和紫外傳輸效率，搭配快速進(jìn)樣裝置，盡可能縮短分析時間，165-950nm的光譜分析范圍也能輕松應(yīng)對低含量分析的苛刻應(yīng)用，適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
不管是高效率的生產(chǎn)企業(yè)，還是科學(xué)前沿的科研實驗室，都能為其提供專業(yè)的解決方案。

儀器參數(shù)
分析性能
檢出限：亞 ppb- ppb
短期穩(wěn)定性：短時間穩(wěn)定性RSD≤0.5%(500 x LOD)
長時間穩(wěn)定性RSD<1.0%(500 X LOD)
固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz
輸出功率：500W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1%
儀器規(guī)格
尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重&#160; 量：約 180kg
光學(xué)系統(tǒng)
分析譜線范圍：165-950nm
分辨率：0.006nm@200nm
光室恒溫：38℃ ±0.1℃，溫度可設(shè)置
CCD 像素：1024x 1024
單像素面積：24μm x 24μm
工作環(huán)境
實驗室濕度環(huán)境：相對濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.995%
排風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時
電源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

儀器優(yōu)勢與特點
挑戰(zhàn)一切復(fù)雜基體，穩(wěn)定可靠的垂直等離子體設(shè)計，舍棄繁雜的稀釋步驟，將ICP-OES元素分析的檢出限做到更低。
中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，氟化鈣棱鏡擁有高紫外透過率，對于需要在光譜紫外區(qū)實現(xiàn)較高靈敏度的汞、銻和鉛等元素的苛刻應(yīng)用，都可以滿足相應(yīng)法規(guī)和產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)的嚴(yán)格要求。
快速進(jìn)樣系統(tǒng)，搭配軸向觀測、徑向觀測和雙向觀測多種模式，近70000條可選擇的譜線，為生產(chǎn)提質(zhì)增效和科研探索提供了更多可能。
更科學(xué)易用的分析軟件，同時提供深度定制的服務(wù)，為每一個客戶的個性化需求提供更專業(yè)的解決方案。